據外媒 HPCwire 消息,三星電子 宣布成功開發了單條容量 512GB 的 DDR5 模組,使用了 High-K Metal Gate (HKMG) 工藝,可以提供超過 DDR4 內存一倍的表現,達到 7200Mb/s。三星表示,新款內存可以用于超級計算機、人工智能運算、數據分析等領域。
IT之家了解到,HKMG 技術目前僅應用于 GDDR6 顯存芯片,能夠使用新的金屬材料作為芯片中的絕緣層,減少漏電流,使得能耗降低 13%。三星這項技術在 DDR5 內存顆粒的應用,進一步確立了該品牌的領先地位。
除此之外,三星還利用了 TSV 硅通孔技術,堆疊 8 層 16Gb DRAM 芯片,因此可以實現 DDR5 內存 512GB 的最大容量。
三星電子內存部門副總裁 Young-Soo Sohn 表示,“三星是目前全球唯一一家能夠使用 HKMG 技術制造內存芯片的半導體廠商。這種工藝引入 DRAM 制造,三星可以為客戶提供高能效的內存解決方案。”